[[V001/IJS/Arhiv|{{attachment:Rubrike/T747.jpg|Arhiv novic|width="350px"}}|&do=get]]

V reviji [[https://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/acsami.2c17351|ACS Applied Materials & Interfaces]] je bila objavljena [[https://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/acsami.2c17351|študija]], ki so jo opravili sodelavci Odseka za raziskave sodobnih materialov prof. dr. Matjaž Spreitzer, dr. Zoran Jovanović, dr. Urška Trstenjak in dr. Hsin-Chia Ho v sodelovanju z raziskovalci s Kemijskega Instituta, Instituta za fiziko Češke znanstvene akademije ter MESA+ Instituta za Nanotehnologijo Univerze Twente. V članku je predstavljena zasnova ter rezultati hibridnega pristopa, ki nudi unikatno perspektivo za integracijo funkcionalnih oksidov s silicijevo platformo. Pristop hkrati omogoča direktno in van der Waals epitaksijo oksidov za pripravo visokokakovostnih psevdo-substratov za nadaljno sintezo funkcionalnih oksidov za uporabo v elektroniki. Ključni korak predstavlja ohranitev kakovosti 2D materialov med in po njihovem prenosu na želeno podlago. Glede na to, da je kakovost takšnih plasti, pripravljenih na reduciranem grafen oksidu, primerljiva z občutno dražjimi in zapletenejšimi postopki priprave, predstavlja ta pristop obetavno novo pot za integracijo materialov z različnimi lastnostmi.